吉林化工学院--科学研究
吉林化工科学技术管理处

大型磁控溅射陶瓷靶材制备技术

[日期:2012-11-06] 来源:  作者: [字体: ]

1、课题来源与背景

课题来源于吉林省教育厅十一五科学技术研究项目功能薄膜材料的研究。背景是为解决高真空磁控溅射系统通常所要求采用的Φ60国际标准大型陶瓷靶材而开发的制备技术。

2、技术原理及性能指标

采用冷压陶瓷制备技术,包括预烧去碳、高静压成型、固相反应和升降温速率控制的陶瓷烧结的综合工艺。能够用于磁控溅射系统、无机材料陶瓷靶材、靶材成分可控、合成温度低于1500℃、、厚度2~4mmΦ60国际标准、密实、无裂隙。

3、成果的创造性与先进性

大型陶瓷靶材制备技术成熟,可根据用户具体的靶材成分需要,能够精确控制组成元素的成分比例、分布均匀、密实而无裂隙、Φ60国际标准。能够采用XRDRaman光谱鉴定靶材结构特征。

4、成果的进展情况、成熟程度,使用范围和安全性

该技术在吉林省教育厅项目功能薄膜材料的研究已得到应用;技术成熟;使用范围为合成温度低于1500℃的无机材料陶瓷靶材;安全可靠。

5、成果应用情况及存在的问题

该技术在吉林省教育厅项目功能薄膜材料的研究已得到应用,效果良好。

存在问题:靶材在磁控溅射圈利用完后,靶材剩余部分的再合成利用未进行进一步研究。

6、转化条件

    该技术主要应用在科研部门和采用磁控溅射技术类的一些企业。但吉林化工学院材料科学与工程研究中心是以功能陶瓷材料为特色的研究部门,在无机陶瓷材料制备上拥有相对成熟的软硬件设备、技术、检测手段和科研团队优势。



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